膜厚儀是薄膜厚度測量儀的簡�，是一種用來在線并定量的測量透光或者半透光的各種薄膜厚度的儀器儀�，通常采用光干涉原理測量薄膜厚��
膜厚儀可應(yīng)用于在線膜厚測量,測氧化物,SiNx,感光保護膜和半導(dǎo)體膜.也可以用來測量鍍在鋼,�,�,陶瓷和塑料等上的粗糙膜層. 薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干�,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系�(shù)等有�(guān),因此可通過計算得到薄膜的厚�.光干涉法是一種無�,精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技�(shù),薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚��
1,可以測量多層膜中每一層的厚度
2,三維的厚度型�
3,遠程控制和在線測�
4,可做150mm or 300mm 的大范圍的掃描測�
5,豐富的材料庫:操作軟件的材料庫帶有大量材料的n和k�(shù)�(jù),基本上的常用材料都包括在這個材料庫�.用戶也可以在材料庫中輸入沒有的材�.
6,軟件操作簡單,測速快:膜厚測量儀操作非常簡單,測量速度�:100ms-1s.
7,軟件帶有�(gòu)建材料結(jié)�(gòu)的拓展功�,可對�/多層薄膜�(shù)�(jù)進行擬合分析,可對薄膜材料進行�(yù)先模擬設(shè)�.
8,軟件帶有可升級的掃描功能,進行薄膜二維的測�,并將�(jié)果以2D�3D的形式顯�.軟件其他的升級功能還包括在線分析軟件,遠程控制模塊�
厚度測量:10納米-250微米; 可以選擇250nm-1100nm間任一波長,也可在該范圍�(nèi)選擇多波長分�;
波長: 250-1100nm
厚度范圍: 10nm--250m
分辨�: 0,1nm
重復(fù)�: 0,3nm
準確�: <1[%] (100nm--100m)
測試時間: 100ms -- <1s
分析層數(shù): 1-- 4
離光纖距�: 1-5mm
離鏡頭距�: 5mm-- 100mm
入射角度: 90°
光斑點大�: 400m
微光斑手�: 與顯微鏡�(lián)�,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnification and MFA-Adapter;
光纖長度: 2m (other lengthes on request)
接口: USB 1.1 (RS-232)
電源需�: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz
尺寸: 180mm x 152 mm x 263mm
總量: 3.5 kg
膜厚儀主要�(yīng)用于晶片或玻璃表面的介電絕緣�(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...); 晶片或玻璃表面超薄金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...); DLC(Diamond Like Carbon)硬涂�;SOI硅片; MEMs 厚層薄膜(100m up to 250m); DVD/CD 涂層; 光學(xué)鏡頭涂層; SOI硅片; 金屬�; 晶片與Mask間氣�; 減薄的晶�(< 120m); 瓶子或注射器等帶弧度的涂�; 薄膜工業(yè)的在線過程控制等等許多場��
維庫電子通，電子知識，一查百��
已收錄詞�162092�
