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金屬鍍層�(cè)厚儀
閱讀�1992�(shí)間:2022-04-21 15:07:13

    金屬鍍層�(cè)厚儀是一種對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層�(jìn)行厚度測(cè)量的儀器,�(cè)量的�(duì)象包括涂�、鍍層、敷�、貼層、化�(xué)生成膜等(在有�(guān)�(guó)家和�(guó)際標(biāo)�(zhǔn)中稱為覆�(coating))� 覆層厚度�(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢�(cè)的重要一�(huán),是�(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)�(zhǔn)的必備手�。為使產(chǎn)品國(guó)際化,我�(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)覆層厚度有了明確的要求�

�(jiǎn)�

    金屬鍍層�(cè)厚儀�(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層�(jìn)行厚度測(cè)量的儀�,測(cè)量的�(duì)象包括涂�、鍍�、敷�、貼�、化�(xué)生成膜等� 主要分為磁性金屬鍍層測(cè)厚儀、電渦流金屬鍍層�(cè)厚儀,X射線金屬鍍層�(cè)厚儀三類�(cè)量方��

磁感�(yīng)�(cè)量原�

    采用磁感�(yīng)原理�(shí),利用從�(cè)頭經(jīng)�(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)�(cè)定覆層厚度。也可以�(cè)定與之對(duì)�(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。覆層越�,則磁阻越大,磁通越�。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀,原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非�(dǎo)磁覆層厚�。一般要求基材導(dǎo)磁率�500以上。如果覆層材料也有磁�,則要求與基材的�(dǎo)磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當(dāng)軟芯上繞著線圈的�(cè)頭放在被�(cè)樣本上時(shí),儀器自�(dòng)輸出�(cè)試電流或�(cè)試信�(hào)。早期的�(chǎn)品采用指針式表頭,測(cè)量感�(yīng)電動(dòng)�(shì)的大�,儀器將該信�(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)�(jì)引入�(wěn)�、鎖�、溫度補(bǔ)�?shù)鹊匦录夹g(shù),利用磁阻來(lái)�(diào)制測(cè)量信�(hào)。還采用專利�(shè)�(jì)的集成電�,引入微�(jī),使�(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高(幾乎�(dá)一�(gè)�(shù)量級(jí)�?,F(xiàn)代的磁感�(yīng)�(cè)厚儀,分辨率�(dá)�0.1um,允許誤差達(dá)1%,量程達(dá)10mm�

    磁性原理測(cè)厚儀可應(yīng)用來(lái)�(cè)量鋼鐵表面的油漆層,�、搪瓷防�(hù)層,塑料、橡膠覆層,包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層,以及化工石油待�(yè)的各種防腐涂��

電渦流測(cè)量原�

    高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中�(chǎn)生電磁場(chǎng),測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí),就在其中形成渦�。測(cè)頭離�(dǎo)電基體愈�,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這�(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與�(dǎo)電基體之間距離的大小,也就是�(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類�(cè)頭專門(mén)�(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測(cè)�。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感�(yīng)原理比較,主要區(qū)別是�(cè)頭不�,信�(hào)的頻率不同,信號(hào)的大�、標(biāo)度關(guān)系不�。與磁感�(yīng)�(cè)厚儀一樣,渦流�(cè)厚儀也達(dá)到了分辨�0.1um,允許誤�1%,量�10mm的高水平�

    采用電渦流原理的�(cè)厚儀,原則上�(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可�(cè)量,如航天航空器表面、車(chē)輛、家�、鋁合金門(mén)窗及其它鋁制品表面的�,塑料涂層及�(yáng)極氧化膜。覆層材料有一定的�(dǎo)電�,通過(guò)校準(zhǔn)同樣也可�(cè)量,但要求兩者的�(dǎo)電率之比至少相差3-5倍(如銅上鍍鉻)。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體,但這類任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合�

    金屬鍍層�(cè)厚儀,指檢測(cè)金屬樣品上鍍層厚度的儀��

    有些膜厚儀采用了磁性測(cè)厚法,是一種超小型�(cè)�?jī)x,它能快�,�(wú)損傷,地�(jìn)行鐵磁性金屬基體上的噴�.電鍍層厚度的�(cè)�.可廣泛用于制造業(yè),金屬加工�(yè),化工�(yè),商檢等檢�(cè)�(lǐng)�.特別適用于工程現(xiàn)�(chǎng)�(cè)�.

    有些膜厚儀采用二次熒光�,它的原理是物�(zhì)�(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不�(wěn)定的狀�(tài)。從不穩(wěn)定狀�(tài)要回到穩(wěn)定狀�(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái),而此�(shí)是以熒光或光的形�(tài)被釋放出�(lái)。熒光X射線鍍層厚度�(cè)�?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)�,來(lái)�(jìn)行定性和定量分析�

    在生�(chǎn)�(guò)程中如何選擇膜厚儀�?

    首先取決于你所�(cè)�(chǎn)品的�(jié)�(gòu).如果只是�(jiǎn)單的涂層,銅箔使用普通的膜厚儀就可以解決了.如銅箔測(cè)厚儀,涂層�(cè)厚儀.

    如果�(cè)量多層金屬鍍層,目前的方式:X-ray鍍層�(cè)量法

    原理�

    X射線和紫外線與紅外線一樣是一種電磁波??梢暪饩€的波長(zhǎng)�0.000001 m �1μm)左�,X射線比其短為0.000000000001 m�0.00000001 m (0.01- 100 ?)左右�

    �(duì)某物�(zhì)�(jìn)行X射線照射�(shí),可以觀�(cè)到主要以�3種X射線�

    �1� 螢光X射線

    �2� 散亂X射線

    �3� 透過(guò)X射線

    �(chǎn)品是利用螢光X射線得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚�)的螢光X射線法原�。和螢光X射線分析裝置一樣被使用的X射線衍射裝置是利用散亂X射線得到物質(zhì)的結(jié)晶信�(�(gòu)�)。而透過(guò)X射線多用于拍攝醫(yī)�(xué)透視照片。另外也用于�(jī)�(chǎng)的貨物檢�。象這樣根據(jù)想得到的物質(zhì)信息而定X射線的種��

    �(jiǎn)單地�(shuō)螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質(zhì)中的元素信息(物�(zhì)�(gòu)�,組成和鍍層厚度),X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質(zhì)中的�(jié)晶信息�

    具體地說(shuō),比如用不同的裝置�(cè)定食�(氯化�=NaCl)�(shí),從螢光X射線裝置得到的信息為此物�(zhì)由鈉(Na)和氯(Cl)�(gòu)�,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物�(zhì)由氯化鈉(NaCl)的結(jié)晶構(gòu)�。單純地看也許會(huì)�(rèn)為能知道�(jié)晶狀�(tài)的X射線衍射裝置(XRD為好,但當(dāng)�(cè)定含多種化合物的物質(zhì)�(shí)只用衍射裝置(XRD)就很難判�,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能�(jìn)行定��

    *可測(cè)量電�、蒸�、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度�

    *可通過(guò)CCD攝像�(jī)�(lái)觀察及選擇任意的微小面積以�(jìn)行微小面積鍍層厚度的�(cè)�,避免直接接觸或破壞被測(cè)��

    *薄膜FP法軟件是�(biāo)�(zhǔn)配置,可同時(shí)�(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分�(jìn)行測(cè)量。此�,適用于�(wú)鉛焊錫的�(yīng)��

    *備有250種以上的鍍層厚度�(cè)量和成分分析�(shí)所需的標(biāo)�(zhǔn)樣品�


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