離子清洗�(jī),又�等離�清洗�(jī),是通過等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的清洗�(shè)��
無機(jī)氣體被激�(fā)為等離子�(tài)→氣相物�(zhì)被吸附在固體表面→被吸附基團(tuán)與固體表面分子反�(yīng)生成�(chǎn)物分子→�(chǎn)物分子解析形成氣相→反應(yīng)殘余物脫離表��
1、離子清洗機(jī)不分處理對象的基材類�,均可�(jìn)行處�,如金屬、半�(dǎo)�、氧化物和大多數(shù)高分子材料等,并可實(shí)�(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)�(gòu)的清��
2、容易采用數(shù)控技�(shù),自動化程度高�
3、具有高精度的控制裝�,時間控制的精度很高�
4、正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保��
5、在真空中�(jìn)�,不污染�(huán)�,保證清洗表面不被二次污��
離子清洗�(jī)主要通過反應(yīng)類型和激�(fā)頻率兩個方面來分類�
反應(yīng)類型分類
等離子體與固體表面發(fā)生反�(yīng)可以分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化�(xué)反應(yīng)�
物理反應(yīng)�(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面終被真空泵吸走。物理反�(yīng)為主的等離子體清�,也叫做濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優(yōu)�(diǎn):本身不�(fā)生化�(xué)反應(yīng),清潔表面不會留下任何的氧化�,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性。缺�(diǎn):對表面�(chǎn)生了很大的損�,會�(chǎn)生很大的熱效�(yīng),對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差,腐蝕速度較低。典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清��
化學(xué)反應(yīng)�(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮�(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)�
化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的�(yōu)�(diǎn):清洗速度較高、選擇性好、對清除有機(jī)污染物比較有�,缺�(diǎn):表面產(chǎn)生氧化物。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清�。通過等離子體�(chǎn)生的氧自由基�?;顫姡菀着c�?xì)浠衔锇l(fā)生反�(yīng),產(chǎn)生二氧化�、一氧化碳和水等易揮�(fā)物,去除表面的污染物�
激�(fā)頻率分類
等離子態(tài)的密度和激�(fā)頻率的關(guān)系式� nc=1.2425×108v2 ,其中nc為等離子�(tài)密度(cm-3�,v為激�(fā)頻(Hz�� 等離子體激�(fā)頻率分為:頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體�13.56MHz的等離子體為射頻等離子體�2.45GHz的等離子體為微波等離子體�
超聲等離子體的自偏壓�1000V左右,射頻等離子體的自偏壓為250V左右,微波等離子體的自偏壓很�,只有幾十伏。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反�(yīng),射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化�(xué)反應(yīng)�
維庫電子通,電子知識,一查百��
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