真空鍍膜機是一種直流磁控反應濺射鍍膜機,主要應用于太陽能真空管的制造過程。根據廠家工藝要求和技術參�,以PLC、觸摸屏作為硬件開發(fā)平臺,設計三靶磁濺式真空鍍膜機的電氣控制系統(tǒng)。工件旋轉和靶旋轉均采用模塊化的直流電機驅動電路,通過PLC軟件程序實現電樞降壓軟起�。采用分子泵替代油擴散泵,解決了鍍膜生產中油擴散泵出現的返油現象,提高鍍膜質量,降低了控制系�(tǒng)的功�,節(jié)約電�90%以�。分子泵VVVF自適應控制的速度閉環(huán)控制建立于真空室真空度的基礎上,從而有效解決了真空度穩(wěn)定和陡降之間的矛�。獲得了與技術工藝參數相適應的靶電源模糊控制方法,該方法用軟件程序簡化硬件電�,明顯優(yōu)于傳�(tǒng)的PID控制方法,模糊化處理的電流反饋回路解��
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